ГлавнаяПо тегу "FinFET EUV"
2

Компания Samsung Electronics официально сообщила о завершении работ по запуску производства чипов с технологическими нормами 5 нм. В объявленном процессе FinFET EUV используется литография в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне, которую компания уже хорошо апробировала в технологии 7 нм, открытой для партнеров в октябре прошлого года. Как отмечается,

Подробнее